Panchrotal wrote:
不吃菜菜小娃...(恕刪)
你只要回答一句、如何將上完PR的12吋Wafer 放到8吋的曝光機？
你能夠回答出這一句我就認同你所說的可以更改模組。
PS: PR 是什麼你知道吧….
Panchrotal wrote:
.. 我從來沒說"接著RUN"三字
甚至沒有說是同一套產線
栽贓被抓包就轉移焦點要求回答其他問題
重點是你根本不應該栽贓吧[]
2021年機台的8吋版本試產
2023年機台的12吋版本試產
兩個是同一型的不同機台不同產線
你說能不能做到[]
ASML同一型光刻機就生產兩種版本唷
我去年9月15就說明是不同機台產線
你怎麼選擇性無視[]
.(恕刪)
最大支援12吋也可以試產8吋是什麼意思？
你一直不敢回答？至於那段英文已經被打臉就在說了、那是指該型號有2個版本可供選擇、你就刻意扭曲成Run 完12吋可以停下來改成Run 8吋的
半導體製程不是只有曝光？懂嗎！機台生產到一半更換成8吋？
你前後站如何解決？別逃避。就算你更換好還是不能生產啊、因為你前面的是12吋的。
你只要回答一句、如何將上完PR的12吋Wafer 放到8吋的曝光機？
請問你真的知道曝光機是什麼嗎？這機器從安裝好到報廢都不能停下來太久的、太久會導致鏡片靸廢懂嗎？
你真的連or 的英文單字都看不懂
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