上一篇說沒有模組化光刻機等外星人開發
下一篇改口談更換模組要做那些程序
林北只談有這種設備存在
就算更換模組很複雜又如何
兩篇前後才差9分鐘
Panchrotal wrote:
不吃菜的髮夾...(恕刪)
從你的留言，你完全不曉得半導體的生產程序。
任何的一項你都完全不知道才會有這些言論
今天是你說可以12吋 RUN 完接著RUN 8吋Wafer 的而不是我
你的言論跟湖底造晶片有什麼區別
好奇怪的邏輯喔只想著曝光機改裝卻沒想到它的上一站上PR 是不是也要一起修改尺寸
。那PR 的上一站PVD 或CVD 是不是也要一起改？
曝光完顯影站是不是也要啊？那去PR 站肯定也要改……. 記得有些Chambers 是照著WAFER 尺寸製作的、所以那麼大的Chamber 也要一併拆除更換喔！
以上還沒有把所有的機器都列入哦。
除非啦你人躲在機器裏拿小叮當的縮小燈照一下、看能不能把12吋的WAFER 照成8吋
PS: 不要試著想搬回一城你的程度不夠
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