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ASML強敵來了!陸「EUV關鍵技術」大突破

taiwan2008 wrote:
中國國內傳言...(恕刪)

不是很難是假消息、01這充滿了太多違背物理定律的文章了、就算造岀來EUV又如何?請問光罩去哪裡生出來?別忘了那些材料及工具都被管制。
E-Beam Write別忘了只有日本人會生產、沒有它是打算用手繪光罩嗎?或許中國人可以吧畢竟有些粉紅說曝光不需要光罩的。
當年這設備剛裝好TSMC 南科某廠、日本人可是看得緊緊的。

https://www.jeol.co.jp/products/semiconductor/ebx/


前面有人貼的那篇Ushio 的文章各位可以大概看一下、要知道Ushio 及Osram(日本廠)在光源的製造上可是當年的龍頭企業及二把手為什麼這些公司不繼續LDP EUV技術?這麼大的利潤為什麼放棄了。
多少解為什麼光罩上要貼一張膜Pellicle保護。

請注意它可是有專利的、沒有它你是打算整天報廢光罩嗎?光罩可是很貴的、相關原物料只有日本生產。
接下來放WAFER 的Smif pod 及相關載具抱歉專利在美國人手上、專利技術搞定了嗎?
曝光完是打算用人力一片一片拿出來去顯影嗎?是打算製作0良率的Wafer嗎因為下一站也是用Smif pod 



PS: 對了千萬別忘記前二年討論的很熱烈的EUV 光刻廠、什麼長春光機所、山中湖湖底曝光造晶片、躲避美國的衛星偵查
長春光機所二年就被拋棄了、這次換華為?
吹半天asml強敵到底在哪裡?
DUV造出來了嗎?欠缺甚麼零件?但是國產DUV能夠取代ASML?所以能夠造EUV雷射光源又能怎樣?
不只會做,這行業還要做到第一才有用,否則三星,intel就不會苦哈哈了
Escentric Molecules05

早年芯片是在設計架構上比高下,代工製造被認為是投資大的辛苦錢,大頭們沒人要做代工台積電才有這機會,若一開始設計芯片的大頭們都有自己生產芯片,那台積電就沒那機會了

2025-03-17 16:20
sroach

Real man own fabs!

2025-03-17 23:09
浸潤式DUVi總量已過100台
年產超過40台,年產量持續上升
stever2018

DUV這種東西沒有做到16奈米以下的功能,只要從2手市場就可找到相應的工具,完全不須買新機器,"繞過EUV技術改用奈米印刷日本佳能開賣5nm晶片製造設備"但是賣不動,因為5奈米是極限,ASML才是主流

2025-03-18 2:48
Panchrotal

stever2018 台積電用38奈米DUV機台生產7奈米晶片,你認為是唬爛?[笑到噴淚]

2025-03-18 4:56
參考一下、



為什麼可以提升生產速度及降低成本?先搞清楚在來談EUV….. 
請尊重專利技術、這麼簡單三井化學可以倒一倒了。
SMEE浸潤式DUVi
第一代性能等於ASML 1980i
第二代性能等於ASML 2050i
Escentric Molecules05 wrote:
不只會做,這行業還要做到第一才有用,否則三星,intel就不會苦哈哈了


那我們的聯電 世紀先進怎麼辦?
stever2018

幫東南亞國家開工廠建生產線...在整廠出售

2025-03-18 2:51
shihan29

賴政府都跟中國宣戰了!應該也要求台積跟聯電把中國晶圓廠撤出中國才對,怎麼可以吃中國的飯還砸中國的鍋,要抗戰就要做的徹底沒有什麼只吃糖衣不吃毒藥的笑話。

2025-03-18 11:49
台積電2019年量產EUV
ASML 2021年才量產光罩護膜

台積電EUV沒光罩護膜就做到量產
老是有人轉移焦點
說華為缺這缺那
我就是說中國缺東缺西啦、有本事你就貼出來中國製的膜及E-Beam Write

我只是貼出三井化學獲得授權的文章、表示要尊重專利技術懂嗎?
我沒說沒貼就不能夠生產、只是會增加成本及降低生產效率、千萬別自行補腦謝謝。
你以為TSMC及日廠頭殼壞掉嗎、沒事畫蛇添足?

沒有膜你任何的碰撞、異物掉落經過曝光後將會難以取下懂嗎?
因為曝光時光罩表面溫度很高。
至少還有一個更嚴重的問題我就故意先不說


一開始就有很多廠商在測試了,不是你看到那個授權日期才有
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