中國EUV大突破？樣機粗糙簡陋5年才量產遭譏：募資發愛國財

【張雅婷／綜合外電】正在中國上海舉行的中國國際工業博覽會上，一家上海新創廠商展出聲稱是7奈米以下最先進製程晶片所需極紫外光（EUV）微影設備樣機。不過，這個樣機外型粗糙簡陋，更離譜的是沒有任何數據資料，現場人員坦承，就算是一切順利的話，仍需要3到5年才能量產。中國網友質疑，這是新創公司涉嫌募資發愛國財。


中國遭到美國科技封鎖，其中最需要的就是晶圓製造的ASML極紫外（EUV）曝光機。中國以舉國體制全力研發，依舊卡關困難重重。其中，美國阻止荷蘭艾司摩爾（ASML）向中國出口EUV微影設備後，中國自行開發深紫外光（DUV）微影設備，以提升先進製程競爭力。


中央社報導，而生產最先進晶片所需的EUV，目前仍是由艾司摩爾壟斷市場。因此在傳出中國研發自製生產EUV後，研發進度一直是外界關心的話題。


不接受訪問

在工博會亮相的這台大型EUV樣機，未放在與積體電路相關的熱門展館，而是低調置於創新科技館內上海市專屬展區中。面對媒體記者詢問細節，現場人員一概以不接受訪問拒絕。


據研製廠商朗道科技在展會現場提供的書面簡介，朗道科技在2024年設立朗道光源專案，聚焦半導體製造核心技術EUV微影設備光源。


相較於對產品解說的低調，由於創新科技館旁就是中國各大學院校展示研究成果的展館，一旦有年輕學生停駐，工作人員會立即遞上包含全職和實習職位的徵才文宣。工作人員說，「我們是新公司，非常需要人才」。
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