中國複製ASML的曝光機只是模型？專家解密

EUV被喻為「外星科技」

〔財經頻道／綜合報導〕《路透》日前披露，中國招聘荷蘭半導體設備巨頭ASML前工程師，以逆向工程打造出華府耗費多年，阻止中國取得的半導體製造設備極紫外光曝光機（EUV；Extreme Ultraviolet）原型機，引發外界關注。對此，數位創作者Eric Lin表示看法，認為中國此舉這不只是對技術的誤解，更是對統計學的公然挑戰，並指中國「錢能解決一切」的土豪邏輯，面對EUV這台被喻為「外星科技」的集合體時，只會撞得頭破血流。

Eric Lin週六（20日）在臉書發文指出，中國現在試圖集合幾百個挖角來的前ASML中國籍工程師，意圖複製這項從研發初期至今、全球累積超過數十萬名頂尖大腦的智慧總和。這不僅是對技術的不敬，更是對統計學的蔑視。

即便我們退一萬步假設，中國傾盡舉國之力，透過各種灰色管道湊齊零組件，真的在上海或北京某個無塵室裡，組裝出了一台「長得像」EUV的機器：它有巨大的白色外殼，有傳送晶圓的軌道，甚至開機時還會發出類似的運轉聲。但這台機器的命運，註定只能是一個昂貴的工業模型，而不是能印鈔票的曝光機。

為什麼？原因很簡單，因為EUV從來就不是樂高積木。Eric Lin稱，把特斯拉拆散了，或許能依樣畫葫蘆造出能跑的電動車；但把ASML的EUV拆散了，你只能得到一堆幾十億台幣的廢鐵。這不是關於單一零件的逆向工程，這是一場關於「極限整合」與「隱性知識」的物理學障礙賽。

一般人看EUV，只看到德國蔡司的鏡頭、美國Cymer的光源。這當然沒錯，但那只是冰山露出水面的那一角。真正無法複製的，是 ASML 如何讓來自全球、超過十萬個頂級零組件，在奈米尺度下精準協作。

試著想像這個場景：你要用雷射在幾十公尺外擊中一顆正在掉落的蘋果，而且要連續擊中5萬次。這還不夠，這顆蘋果本身還在一個高速旋轉的轉盤上。這就是EUV內部的真實寫照。

除了光學系統，EUV內部必須維持「極度真空」。因為極紫外光的波長極短，空氣中任何一點氣體分子都會把光線吸收殆盡。這意味著ASML必須打造一個比外太空還要乾淨的真空腔體，而且在這個腔體內，還有高速移動的工件台在運作。而這直接引出了另一個被低估的技術黑洞—雙工件台系統（Twinscan）。

Eric Lin稱，要在晶圓上刻電路，晶圓台移動的速度快得驚人，且急停急煞的加速度極大。中國目前連在常壓下控制這種精度的機械手臂都還不穩定，更別提在真空中利用磁懸浮技術，去驅動2個重達幾噸的工件台進行「華爾茲」。這2個檯子一個在曝光，另一個在測量，彼此切換的時間是以毫秒計算，誤差必須控制在奈米等級。

「動態整合能力」差0.001秒 雷射就會打偏

只要震動稍微大一點點，或者磁懸浮的控制演算法稍微慢了0.001秒，雷射就會打偏，整片價值數萬美元的晶圓就直接報銷。這種「動態整合能力」，不是買幾張藍圖就能學會的。

Eric Lin稱，如果說硬體是骨架，那軟體就是靈魂。這正是中國最感到無力的地方，即便他們透過高薪挖角，找來了那些曾經參與組裝的前ASML中國工程師，也無濟於事。這些人或許能憑藉記憶，教你怎麼把這堆複雜的樂高積木拼起來；他們看過圖紙，知道骨架怎麼搭、外殼怎麼鎖，甚至能完美復刻出機台的物理外型。但這就是極限了。因為他們抄到了肉體，卻註定抄不到靈魂。

Eric Lin表示，EUV內部運行著超過5000萬行的控製程式碼，規模甚至超過波音787，這套軟體系統不是單純的「開關控制」，它是一套具備自我修正能力的超級大腦。

EUV運作時會產生高熱，鏡頭會熱膨脹，機台會微幅變形。ASML的感測器遍佈機身，即時監控這些微小的物理變化，並透過演算法即時調整鏡頭位置與雷射功率進行補償。

中國目前的困境在於，他們或許能寫出控制機械手臂動作的程式，但無法寫出這種「基於幾十年物理數據累積」的補償演算法。這些數據是ASML在過去30年裡，透過無數次失敗累積下來的「工業直覺」。沒有這些參數，光有硬體，就像給了一個剛拿到駕照的新手一台F1賽車，他連起步都會熄火。

EUV是ASML與台積電共同養出的怪獸

最後，也是最殘酷的一點，EUV根本不是ASML一家公司造出來的。Eric Lin稱，EUV是ASML與全球頂尖客戶（尤其是台積電）共同「養」出來的怪獸。一台新機器的原型機往往充滿缺陷，只有放到台積電這種對良率有著變態要求的工廠裡，24小時不間斷地運轉，才能暴露出隱藏的問題。

台積電的工程師經常發現連ASML自己都沒發現的Bug，比如某個特定角度的曝光會造成邊緣模糊，或是某個頻率的震動會影響對準精度。這些來自第一線的「反饋數據」，是ASML修正機器、最佳化下一代產品的養分，於是形成正循環：台積電用得越多，ASML 改得越好；ASML 改得越好，台積電良率越高。

反觀中國，連DUV微影機都還沒能完全吃透，良率控制依舊成謎。在缺乏頂級製程回饋的前提下，試圖憑空打造EUV的控制邏輯，這不叫研發，而是盲人摸象。

連走路（DUV）都還會跌倒，就想要學飛（EUV），中國彎道超車最後卻翻車的案例太多了，就連電動車產業，最近中國車廠也接連翻車，都是因為沒徹底抄，還自作聰明以為可以省略範本中的"多餘"部份。

最後，Eric Lin做出結論，稱中國或許能用錢砸出光學鏡片，也能挖角工程師做出雷射光源，甚至能組裝出一個外型一模一樣的EUV空殼。但那個結合了德國光學、美國光源、荷蘭系統整合，以及台灣製程工藝的複雜生態系，是無法被單一國家復刻的。

這不是看不起中國的製造能力，而是對工業文明積累的敬畏。在物理學與供應鏈的鐵律面前，民族主義的熱情，終究得讓位給冷冰冰的良率數據。

目前中國砸重金都複製不出台積電在DUV時代的光榮，同樣用多重顯影，良率只有當年台積電的5分之1，現在還想要複製EUV？
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