Mate X5 重量僅245公克
不吃菜菜小娃 wrote:
然後呢？是不是依靠美日等的設備及源物料、我貼的東西2035年中國前絕對不可能生產出來。
說的是這東西吧。
說得好像誰的獨門秘技似的，原來荷蘭日本韓國台灣都能造出來。
光刻機原來還只有ASML一家呢，中國都能造出DUV了。
既然這膜有四家都能造，那就難極有限。
傳三星自研EUV光罩保護膜已量產
2023/02/16
2月15日消息，據韓國媒體BusinessKorea報導，三星正在開發極紫外光(EUV)光罩保護膜(Pellicle)，希望藉此提高EUV系統生產芯片的良率以縮小與競爭對手台積電的市佔率差距。
據了解，光罩保護膜是一種薄膜，可保護EUV光罩表面免受空氣中微分子或污染物的影響，這對於 5nm或以下節點製程的先進製程技術的良率表現至關重要。另外，光罩保護膜也是一種需要定期更換的消耗品，而由於 EUV光刻設備的光源波長較短，因此保護膜需要較薄厚度來增加透光率。之前，硅已被用於製造光罩護膜，但石墨烯會是一種更好的材料，因爲石墨烯製造的光罩保護膜比硅更薄、更透明。
目前光罩保護膜主要供應商是荷蘭ASML、日本三井化學和韓國S&S Tech。而台積電從2019 年開始，就使用自研的EUV 光罩保護膜，並且於2021 年宣佈產能比2019 年提高了20 倍。
三星曾在其“Foundry Forum 2021”上就宣佈要自研EUV光罩保護膜，2023 年初開發透光率達88% 的EUV光罩護膜。按照三星說法，其EUV 光罩保護膜應已量產，有助達成供應鏈多元化和穩定。不過三星還要繼續開發，因88% 透光率護膜並不是品質最好的產品。目前，市場已有透光率達90% 以上EUV光罩保護膜廠商，一加是ASML，另一家是S&S Tech，後者2021 年成功開發透光率爲90% 的EUV光罩保護膜。
報道稱，三星半導體研究所近期人才招聘資料顯示，三星正積極開發透光率92% 的EUV光罩保護膜。目前，三星也開始研究下一代High-NA EUV 護膜，將採用新材料，也將與外部機構合作，開發評估碳納米管和石墨烯EUV光罩保護膜。三星也會推動自研的納米石墨薄膜大量生產設施設計。
市場人士表示，三星推動自研EUV光罩保護膜，就是爲了追上臺積電。
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