不吃菜菜小娃 wrote:所以你無法回答是吧、你想倒退回去就說淸楚、大家可以原諒你。😂😂 會用到曝光機台研發和商用初期測試不必用EUV機台台積電使用EUV機台前所用曝光機台類型基於已知三個要件,任何正常人都會得到一個答案只有愚鈍或裝睡之人才會一直停留在在EUV不斷跳針
super bandage wrote:是你根本沒回應,業界曝光機台是不是只有EUV一種技術,台積電在EUV曝光機台之前用空氣代工製造晶片嗎?...(恕刪) 所以你的下世代碳基晶片是打算增大線寬了嗎?增加耗能及降低速度為碳晶片的特點嗎?不然的話你怎麼會問EUV之前用什麼機台呢?我就暫時稱它為倒退嚕晶片囉。
不吃菜菜小娃 wrote:所以你的下世代碳基晶片是打算增大線寬了嗎?增加耗能及降低速度為碳晶片的特點嗎?不然的話你怎麼會問EUV之前用什麼機台呢?我就暫時稱它為倒退嚕晶片囉。 說多錯多無知卻愛演你自己又再次主動給出自身對碳基半導體無知的證據
不吃菜菜小娃 wrote:錯!這叫PE借機懂嗎、跟你談PE似乎太深奧了。 所以EUV曝光機台問世前,台積電都是用空氣在代工製造晶片?ASML原來至今一直只賣客戶EUV機台?你可以繼續先射箭後畫靶倒果為因去論述,只是讓更多人看到笑話