過客4112 wrote:今天看到一篇報導, 提供給大家參考文中提到中國自製的最高光刻機只到28奈米DUV光刻機因此想要在幾年內突破到EUV, 可能困難度相當高 中國很多東西都是默默進行,三年前沒人預估麒麟9000S現在可以做得出來任何技術西方能做得的,中國沒有做不出來的..
hank28 wrote:美國政府已經派人拆解...(恕刪) 技術跟機器設備,軟體系統通通沒關係不是這一行的你說出話來只會讓人笑台積電也擁有自己的技術與專利但要脫美化壓根就不可能你從那條腦迴路轉出認為你家中芯可以去美化你是沒睡醒吧
過客4112 wrote:今天看到一篇報導, 提供給大家參考文中提到中國自製的最高光刻機只到28奈米DUV光刻機因此想要在幾年內突破到EUV, 可能困難度相當高 機台第一是ASML世界第二是Nikon 研究廿年目前達到38nm"只到28奈米" 才幾年已經超過世界第二