根據彭博社(Bloomberg)報導,美國商務部長 Howard Lutnick 近期向荷蘭半導體設備巨頭艾司摩爾(ASML)高層表達嚴重關切,懷疑該公司最頂尖的極紫外光(EUV)曝光機可能已流入中國,恐已違反美國主導的對中出口管制禁令。
根據路透社(Reuters)引述彭博社(Bloomberg)的最新報導,知情人士透露,美國商務部長 Howard Lutnick 在與艾司摩爾(ASML)高層進行的一系列會議中,直接表達了美方的擔憂。美方懷疑,ASML 旗下最先進的極紫外光(EUV)曝光機,可能已經透過某種管道流入中國市場。
荷蘭 ASML 的官方回應
堅決否認流入:ASML 高層在會議中強力反駁美方的懷疑,強調中國沒有任何機會拿到該公司的最先進 EUV 設備。
具備遠端遙控:ASML 解釋,該公司所生產的 EUV 設備內部均設有遠端遙控與全面監控系統,目前可以百分之百確認,沒有任何一台 EUV 機器在中國境內運作。
美國持續關注中國在半導體繞道技術上的進展,這場 華為發表的「新定律」是否能改寫中美晶片戰的格局,未來幾年的晶片實測與量產良率將是關鍵。
這場「抓內鬼」的風波反映出美國政府在防堵先進半導體技術流入中國的政策上,正承受極大的科技焦慮,並對荷蘭等盟友施加了比以往更嚴厲的施壓與審查
呵呵............老美在害怕啥??
害怕「中國晶片進展」超乎老美預期 ?
害怕失去對全球盟友的「絕對控制權」?






























































































