tt0566 wrote:对于7纳米制程的EUV光刻机,这个是美国也无法阻止ASML出口中国,因为这台机上关键组件极紫外线光源就是中国提供的,重要程度完全不亚于德国蔡司提供的光学组件 是那一家企業有這樣的實力,講出來嘛,是那個"關鍵零組件"只有大陸做得出來?_....做出來的成品用在那裏??我完全贊同美國不要阻止大陸買EUV,最好買個一百一千台的,當博物館展覽品也爽.
tt0566 wrote:中国发展的那种激光晶体已发展到第三代,并且严禁出口美国,而美国最近才有所突破,但还是第一代,且在实验室中,离量产还有一段距离,中国和荷兰ASML的协议是用在EUV光刻机中,且不得军事用途 牛頭不對馬嘴,馮京當馬涼.不跟你耗了.你應該叫中芯跟中微買個千百台機台,一次把台積電和三星打垮,不要像現在一樣,要死不活的.要有大躍進的精神.買一台EUV能做什麼?花了1.2億美金,只買一台,還2019年才能交貨.結果大陸能大量量產,一台才三千八百萬人民幣.你還不趕快去跟中芯講這個全世界只有你知道的秘密....
光刻机相当于在硅片上刻一个印子,流程极快,三星,台积电每年生产数亿颗芯片,每年所需最先进光刻机也才十几台,所以单价极高,而作为蚀刻晶体管的蚀刻机,技术难度没光刻机高,且作为生产工序,需求比光刻机高的多,所以单价只有光刻机的二十分之一,上海四月底阻止出口的蚀刻机,据说是美国应用材料委托进口,是中微半导体主动要求停止出口,担心应用材料侵犯其专利
楼上的老兄还没有搞清楚,光刻机和蚀刻机不是一回事,光刻机在硅片上刻个印子,蚀刻机在印子的基础上蚀刻晶体管,全世界能生产7nm EUV光刻机ASML独此一家,能生产蚀刻机的有中美日韩的五家企业,但其中上海中微半导体的5nm蚀刻机最成熟
tt0566 wrote:光刻机相当于在硅片上...(恕刪) 亂説一通、光刻機就像一台相機、你要先取景才會有照片、而那個景就是Mask光罩、所有的圖形都在光罩上。至於光罩製程的難度又是另外一方面的。而且EVU也不是你口中的曙光極為快速、了不起1小時曝100片Wafer,所以一定是高單價的產品才會用。其他的產品就用i7,i8等stepper曝光就可以了。