無需ASML圖紙！外媒再放狠話：國產廠商也能生產EUV光刻機

【12月22日訊】導語，相信大家都知道，在全球眾多光刻機裝置廠商中，唯獨荷蘭ASML能夠生產製造用於7nm、5nm以及3nm以下的EUV光刻機裝置，而對於日本尼康、佳能、中國上海微電子所生產的光刻機水平依舊維持在14nm及以上工藝，而目前上海微電子即將在明年交付28nm浸潤式光刻機，在詳細對比了ASML光刻機和國產光刻機裝置的差距以後，很多網友們都紛紛直言：“國產光刻機至少落後十年.....”

如果日本尼康、佳能、中國上海微電子也可以的得到相同的資源支援，一樣可以在不斷地除錯過程中將EUV光刻機造出來，並不需要所謂的10 年，甚至是20年，也不需要所謂ASML公司的光刻機圖紙。