Panchrotal wrote:
IR天生的物理限制解析度不高
這就要看溫度的解析度與分辨率
老美的三五族半導體科技可是執世界牛耳
天曉得又有什麼進展～
阿帕契在高空中的熱影像人的輪廓與溫度分佈已經不差了～
不過看老美追UFO的影像，解析度不高，但能鎖定沒脫鎖～
解析度不高可能有進行模糊處理
不然老共可以推算解析度⋯
Panchrotal wrote:
波長決定分辨率極限
話是沒錯
紅外線的波長比可見光波長較長些
但比雷達波短太多了
雷達靠雷達波就能鎖定⋯
光達的波不是可見光，也是IR~
光纖裏面的光也是IR, 分1330，1550nm兩個波段，這兩個波段是要閃二氧化矽的吸收光譜⋯
其實要認真談解析度
不只有波長
還要談透鏡組
如透鏡設計的總參數，如K1值
還有Numerical Aperture (NA)
NA值與透鏡直鏡與鏡後距有關⋯
以半導體製程的發展
要拚解析度half pitch
光源很難改
因爲牽涉到材料的能階對應的波長
改材料是改朝換代很難
拚的就是增加NA值來增加解析度
而不是波長⋯
什麼？
加大NA會讓透鏡組造價成幾何倍數增加體積變太大
那還有沒有賤招？不動波長與NA下提高解析度
客戶太苛了
小幅增加還是有的
改介值
利用光程差破壞性干涉（這有幾種方法）提升⋯
偏軸曝光⋯
提升解析度可是關鍵中的關鍵
各種招數能用都會用上⋯
Panchrotal wrote:
飛機是在空氣中飛
空氣決定了NA值也有上限
不像台GG半導體製程可以改變介質
您應該對於台GG的193i浸潤式曝光不是很清楚
跟在空氣飛沒有關係
改變介質只有離開透鏡後進入sensor或wafer才會用到
跟透鏡組與其匹配的 NA值無關
原因是台GG用的是193nm波長
再往下降低波長會進入玻璃的吸收光譜
所以透鏡的介質與NA值也以空氣作為計算
離開透鏡才會改介質...
其實半導體製程的最小線寬如fin pitch
根本不是靠曝光機的解析度達成
因為早已經超過曝光機的性能與解析度了
而是靠特殊方法....
第一個想出來的人真是鬼才
就算是現在已經導入EUV製程
但是最小線寬還是用這種方法...
如果只拚曝光機解析度
摩爾定律早就玩不下去了...
我喜歡異業交流
這樣才不會有盲點...
每天選擇什麼都會永遠的失去這一天
所以不需要在爛人與爛事上浪費一秒鐘~
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