空白鍵II wrote:
想請教高手們我的電...(恕刪)
濺鍍？
不就冷卻系統、真空度、惰性氣體三者間的問題？
如果電子機構沒問題，最常發生是真空機鎖真空的問題與電極短路問題。
其實那個遮罩不是控制濺鍍範圍主要因素，算是控制濺鍍範圍間接的因素而已，
那個遮罩也有人很有趣的叫它做(煙囪)。
真空大致上可分粗分為五種，低真空、中真空、高真空、超高真空、極高真空，
氣體分子在低真空的狀態下微黏滯流狀態，
中真空時為過度流狀態，也就是氣體流動逐漸從黏滯流狀態過度到分子流狀態，
此時腔內氣體對流現象明顯的消失，
高真空、超高真空、極高真空為分子流狀態，容器中氣體分子數很少，
分子相互碰撞次數也相對減少，氣體分子平均自由徑已經大於腔體容器的限度，
使得靶材與殘餘氣體分子的化合作用變得十分微弱，
這時若要把電漿點起來是不容易的，除非增加反應氣體的莫耳數使分子與靶材碰撞的機率增加，
但相對的反應氣體過多在腔體內亂竄時，腔體內真空度也會下降，會使turbo轉速上升，
為了使轉速下降，勢必又要將細抽的turbo pump閥門開度增加，
閥門一大開，氣體分子在腔內停留時間過短，一下子就被抽掉，
氣體分子與靶材表面碰撞機率下降，還會影響濺鍍速率及鍍膜品質，
這是一個雙面刃的方法，
裝了煙囪(遮罩)的好處就是可以把氣體分子侷限於靠近靶材表面，
靶材與殘餘氣體分子間的平均自由徑會減少，就容易點燃電漿，
而且氣體分子在濺鍍時更容易被收集來碰撞靶材表面分子，可以增加濺鍍的效率和成功率，
一來相對你的濺鍍時的反饋電壓和電流也會大大降低，
二來反應氣體也不用開大大，腔內真空度也會提高和穩定，
這是裝遮罩的好處。
當然遮罩必須要常常清潔，如同你說的裡面很容易會有薄膜鍍在遮罩內側，
這些薄膜都會累積電荷，很容易造成arcing的現象，
一來對濺鍍時的反饋電壓和電流都會產生不穩定的跳動，
二來產生的電弧對靶材表面也是種傷害，
最後還會使靶材表面的溫度異常上升，熱應力不好的靶材就會破裂，或是造成濺鍍槍的磁鐵消磁，
最糟糕的就是有些脆性金屬、介金屬、陶磁這些靶材的散熱不好，
通常都會bonding在銅背靶上增加散熱和與濺鍍槍的接觸性良好，
中間會都會用銦(ln)來做貼合材料，
溫度一旦過高超過銦的融點流出來，你的靶材就再見了，連同整個腔體都被汙染，不可不慎
另外在真空系統裡面濺鍍的區域範圍有幾個重要的控制因素:
1. sputter gun的角度
2. sputter gun上面靶材表面與你的基座(基板)高度
3. 基座(基板)的與靶材間的導通是否良好.......等許多因素
棒流爪貴虧 wrote:
濺鍍？不就冷卻系統...(恕刪)
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