不用極紫外光(EUV)也能量產2奈米? 如何做到？
先進製程成本將大幅降低！？
maya95 wrote:
不用極紫外光(EUV...(恕刪)
這個之前kioxia導入測試發送樣品後，被潛在客戶投訴缺陷不良率偏高
連NAND生產都還無法完全商用，要能正式引入到邏輯晶片生產上，樂觀點講最快也還要再花個幾年時間再改善過..
奈米壓印比較有公開可查詢到的問題在於如大面積製作困難，和多層製作得對位上精度不夠，不管是主動式對位還是壓電驅動都有各自得短處需改良(解析度不夠&行程太短)，這些之外是否有更深入得待解難題就不清楚了
衝突是不會，如果技術成熟，各晶圓廠應該會樂意採用，真正的競爭對手是生產傳統光學微影設備的廠商，晶圓廠只是看誰能大量採用並將其高效高良率生產，這方面還是前幾大晶圓廠會比較吃香(大者恆大)
其它廠使用 EUV 就做不出能孝孤的 2nm 了,
換成這個, 會有用?
再給 i社口頭嘉獎一下:
那個 intel 4 終於得到評測網站標示為 7nm.
有很大的進步. 再加油嘍~
樓主不用生氣, 各廠唬爛, 讓人誤以為真的如它宣傳的那樣好,
花了一些冤枉錢, 才值得生氣. 被耍了很多年, 說它們幾句,
難道不行!?
還有, 直說出現況, 怎能說是輕視!?
GG 張董說還會繼續領先二十年, 對! 是時間問題,
只不過要20年.
補充:
1.GG 2nm 在新竹寶山正興建 2nm 廠房, 屬於 "大Fab",
是一個廠群. 估明年就能蓋好.
2.已經確定台中為 GG 2nm "第二"廠區. 至於高雄部分要安排 3nm, 2nm還是 1.4nm? 尚未有官方消息.
如果先不看10nm以下的邏輯晶片生產，其餘應用上奈米壓印的適用領域倒是多采多姿，像是先進封裝.光學微透鏡.生物微流道元件.或是MEMS/ NEMS元件LED.VCSEL等都能用
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