當年 pentium4 到4ghz 因漏電過熱那 i7 3770k 現在可上4.5ghz gate oxide 的漏電如何克服

當年 pentium4 到4ghz 因漏電過熱那 i7 3770k 現在可上4.5ghz

是因為 3d gate 嗎 ??

到底和 pentium4 比

gate oxide 的漏電如何克服 ??

空冷下未來 intel cpu 會到多高 clock ??

amd 新cpu 打樁機 模組方式又是如何 ??

2012-05-22 23:35 發佈
P4喔

原廠風扇還壓不住哩

而且很吵.....
有人知道 ?

ic soi 是防 substrate 漏電但是 gate oxide 太薄
因為低壓

一定會出現晶格不良

是 Metal Gate ???

High-K Metal-Gate SOI

早期mos 也是 Metal Gate => POLY gate Pmos => nmos => CMOS => BCD
=> polysilicon gate => SOI => Low K => Hi K ?? metal gate


metal 不是會吃到silicion內嗎

fnf2000 wrote:
P4喔原廠風扇還壓不...(恕刪)
現在也是原廠扇快壓不住了...........

不過22nm可以無散熱器開機進OS真的滿猛的.........
閒暇時歡迎來坐坐...( ̄﹏ ̄) http://ppt.cc/e60i0
taiwan2008 wrote:

早期mos 也是 Metal Gate => POLY gate Pmos => nmos => CMOS => BCD
=> polysilicon gate => SOI => Low K => Hi K ?? metal gate
...(恕刪)



閘極的漏電問題在45nm的時候intel採用HKMG已經解決了

AMD的32nm也跟上HKMG了

早期gate用金屬,那為何他之後用多晶矽

原因很簡單,因為金屬閘極無法承受高溫退火

多晶矽閘極+二氧化矽介電層相對比較穩定


通道內的漏電喔

SOI製程的話上面的那層矽越薄

那閘極對通道內的影響就越大漏電越少

但是要做薄的技術上有問題



你要問就去問TSMC的製程工程師好了

相信你可以問到滿意
接下來時脈不是問題了吧
如果又恢復到以前追求時脈,我想AMD可能還會偷笑

大概3G就是一個臨界點
現在勉強逼近4G

當時3GHz除了時脈高,完全沒什麼效益
電都用到不對的地方去了

下一代的C2D 直接從3.8G 又掉回1.6G重新開始
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