小龍鐵金剛 wrote:
目前中國的自產光刻機只能搞90nm,跟荷蘭ASML完全沒可比性。買先進的光刻機已經成為中國不計代價也要完成的戰略目標,從台灣挖半導體人才怎麼了?沒設備用嘴巴講最快。
小朋友要不要用光世代了, 你網速有點慢噢,
目前祖國已自產光刻機28奈米了, 任重道遠, 還要再加油。
另外, 當年TSMC也從美痢姦挖人才,
以後台灣也可以跟大陸挖人才, 這沒有什麼好嘴的, 如果台灣還有錢的話, 錢多好辦事。
近日中國晶片再傳捷報,由我國武漢光電國家研究中心的甘棕松團隊,成功研發出 9nm 工藝光刻機。
此次研發成功的 9nm 光刻機技術與西方不同是,國產光刻機利用了二束雷射在自研的光刻機上突破了光束衍射極限的限制,刻出了最小 9nm 線寬的線段,這是我們獨有的技術,我們也將擁有自主產權。不過,現階段 9nm 光刻機技術還僅限於試驗階段,但是作為國人的我們有理由相信,在不久的將來,國產光刻機必然會走出實驗室,實現晶片量產。
原文網址:https://kknews.cc/tech/mrp5j5z.html






























































































