meridian wrote:
N7+應該就沒生意了
但N7跟N6肯定還會有
因為N5只能用EUV曝光...(恕刪)
其實EUV製程只有在底層的電晶體製作上
也不是每一道都用EUV
現在半導體製程的光罩圖形
只剩長條狀與方洞
方洞是contact與Via
方洞是兩邊x,y方向都要有精度
長條狀一邊就好
所以目前的EUV製程
只用在FINFET的contact與via
其他還是用四重曝光來做...
其實EUV只用單一光罩也只是適用於7,5nm製程
再微縮的話
可能在3nm的node要用EUV的雙重曝光
更會搞死人...