在不同的角度下位置都不會動，回來試了一下發現中獎啦，入塵一顆，另外在四周陸續發現一些較小的黑點
但除了那一點以外，其他的還勉強在可忍受範圍內
爬文後發現比較多人清CCD/CMOS用的方法屬果凍筆和日蝕液這兩派，經評估後我選了後者，雖然果凍筆比較方便，不過自從看過有網友用果凍筆把鍍膜黏起來的慘劇後，對這個東西就有一點戒心，用日蝕液的話就算清不乾淨的話總不至於把整顆CMOS都搞掛吧？！(結果真的清不乾淨了
)在研究完前人發的詳細圖文版解說後，今天材料送達家裡，就來動手把那顆礙眼的灰點除掉了
以下是進行前的照片
中間最大顆的灰點，100%裁切
角落(很乾淨)，100%裁切
我準備的工具是PEK-PAD底片清潔紙和日蝕液(E2)，包覆清潔紙的清潔片我是拿筷子，然後將尖端削成扁平狀，那個寬度，每次滴一滴日蝕液，由左擦到右，從上而下依序掃三次，剛好蓋過整個CMOS的面，最後從最右邊由上刮下來收尾，每掃過一次清潔紙就換掉，可是....今天花了一整個下午的時間，成果非常悽慘，請大家幫我看一下下面的圖：
中間的灰點，100%裁切
角落的灰點，100%裁切
從中間部份的截圖看的出來原來大顆的被解決掉了，但是跑出好幾顆小顆的，事實上經過我一整個下午的塗抹後(總共花了15張試鏡紙和1/3瓶日蝕液吧
)，CMOS上跑出了很多小塵點，本來我的狀況是一顆大顆的加上幾顆小的，我用數的就數的出來，現在變成很多小塵點散佈開來，我怎麼清都清不乾淨，感覺上清潔紙只是把髒東西往旁邊推，吸附不起來的樣子，不知道各位在使用上會有這種感覺嗎？現在搞的很頭大，晚上再試了一會兒還是不行，一邊乾淨了就換另一邊髒，能否請有經驗的前人們給我一點指引，是不是我的步驟哪邊有錯了呢？感謝....
